潔凈室中工業(yè)除濕機(jī)的濕度控制

，在半導(dǎo)體制造中，當(dāng)晶片制造區(qū)域中的濕度水平波動(dòng)時(shí)，會(huì)出現(xiàn)許多問題。烘烤時(shí)間通常會(huì)增加，整個(gè)過程通常變得更難以控制。高于35％RH的濕度會(huì)使組件容易受到腐蝕。此外，隨著顯影劑溶劑噴灑到晶片上，溶劑迅速蒸發(fā)，冷卻晶片足以冷凝空氣中的水分。這種額外的水可以改變顯影劑特性并被吸收到半導(dǎo)體層上。這可能會(huì)導(dǎo)致膨脹和產(chǎn)品質(zhì)量問題，從而需要額外的過程控制。

制藥潔凈室

在制藥生產(chǎn)設(shè)施中

，高濕度會(huì)使細(xì)粉吸收水分，阻塞粉末進(jìn)入壓片機(jī)。由吸濕引起的粉末不一致導(dǎo)致崩潰的片劑和堵塞的片劑模具。濕度變化意味著難以調(diào)整床溫和噴霧速率，導(dǎo)致熱損傷和濕氣侵入。此外，空氣管道中的濕度會(huì)造成潮濕的地方，細(xì)菌菌落生長(zhǎng)并引起過程污染。

一般建議

干凈室內(nèi)的相對(duì)濕度應(yīng)控制在35-40％RH（這是工藝要求的一個(gè)函數(shù)），用于全年運(yùn)行

。在低于20°C（70°F）的溫度下，這些RH水平通常保持在±2％RH的窄帶內(nèi)。

工業(yè)除濕機(jī)解決方案

工業(yè)除濕機(jī)可將露點(diǎn)始終保持在非常低的水平

，如（ - ）60°C（空氣濕度的歧管減少），遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過標(biāo)準(zhǔn)HVAC制冷系統(tǒng)所能達(dá)到的水平。